Українські рефератиучбові матеріали на українській мові

RefBaza.com.ua пропонує студентам та абітурієнтам найбільшу базу з рефератів! Також ви можете ділитися своїми рефератами для поповнення бази.

Вакуумное напилювання

Сторінка 4

Метод магнетронного розпорошення із постійною силою струму Демшевського не дозволяє отримувати плівки оксидів за високої швидкості розпорошення з за різкого окислення катода–мишени. У таких випадках доцільніше застосовувати високочастотне магнетронное розпорошення, реалізує можливість розпорошення діелектричних матеріалів магнітному полі без зміни стехиометрического складу при збільшеною швидкості випаровування.

Не дивлячись певні переваги безпосереднього розпорошення діелектриків ВЧ – магнетроном, цей спосіб відрізняється незначною швидкістю конденсації і, як наслідок, низькою продуктивністю. Є опредёленные складнощі у узгодженні джерела харчування магнетрону з навантаженням під час роботи на високих частотах; ще, джерело харчування може бути оснастили системою гасіння дугових розрядів, є причиною нестабільності робочих параметрів магнетронной распылительной системи.

За принципом роботи вакуумні установки з ионно-плазменными джерелами розпорошення можна розділити на установки періодичного і безперервного дії.

У установках періодичної дії распылительные устрою мають по осі циліндричною камери, або за її котра утворює, у разі використовують циліндричні распылительные устрою; у другому планарные. Подложки транспортуються через зону плазми. Установки періодичної дії застосовують для нанесення покрить на полімерну плівку чи папір. Для зниження температури підкладки при магнетронном розпорошення слід: потрібно покращувати теплової контакт підкладки з охлаждаемым барабаном; виготовляти барабан з матеріалу із високим теплопроводностью або збільшувати теплопровідність газової прошарку між барабаном і плёнкой; охолоджувати барабан до температури 243 … 253К; розширювати зону нанесення покриття і діаметр барабана. Підвищена швидкість газовыделения підкладки , і навіть ймовірність взаємодії іонізованих газів з осаждающемся металом зумовлюють використання конденсаційних вакуумних пасток.

Щоб завдати покриттів складного складу чи багатошарових покриттів на плоскі підкладки перспективні установки безперервного дії. Зазвичай установки безперервного дії складаються з низки пласких прямокутних камер, розділених шлюзами і затворами. найпоширеніші установки з розпиленням згори донизу, і навіть установки з вертикальним переміщенням підкладок і бічним розміщенням распылительных пристроїв. У таблиці наведено швидкості осадження різних сплавів і сполук під час використання планарного магнетрону потужністю 5 кВт.

Таблиця 3

Матеріал

Uос,

мкм/(Вт з)

Матеріал

Uос,

мкм/(Вт з)

Матеріал

Uос,

мкм/(Вт з)

AlSi

4,08

Бронза

6,80

Cr2O3

4,59

WTi

2,04

Латунь

6,80

InSnO2

2,38

NiCr

4,08

WC

1,87

CdSnO2

3,57

CuNi

5,78

TiO2

2,38

Al2O3

2,38

FeNi

3,91

Ta2O5

3,57

TiN

0,85

CuTiFe

7,48

       

Магнетронное розпорошення дозволяє істотно розширити клас матеріалів, одержуваних у вигляді плівок, проте це метод дорогий, потребує складного устаткування й високої культури виробництва.

СПИСОК ЛІТЕРАТУРИ.

1. Довідник оператора установок з нанесення покриттів в вакуумі; А.І. Костржицкий, В.Ф. Карпов, М.П. Кабанченко, О.Н. Соловьёва, «Машинострение» 1991

2. Захист від корозії, старіння і біопошкоджень: Довідник А.А. Герасименко, «Машинобудування» 1987


Схожі реферати

Статистика

Реферат: Вакуумное напилювання
Рубрика: Технологія
Дата публікації: 2013-01-29 15:02:42
Прочитано: 19 раз

1 2 3 [4]